光馳半導體技術(上海)有限公司由日本光馳集團(股票代碼:6235.T(東京證券交易所))名下的光馳科技(上海)有限公司投資設立,是一家以ALD(原子層沉積鍍膜)與ETCHING(刻蝕)技術為依托,通過持續(xù)的技術創(chuàng)新和市場開拓,在光學鏡頭、微顯示、化合物半導體、晶圓級光學、圖像傳感器等半導體或泛半導體領域實現(xiàn)鍍膜技術應用與設備銷售的公司。公司成立于2021年9月23日,注冊資金1.2億元。同時在光馳集團所屬日本、芬蘭據(jù)點分別進行材料應用,核心器件的研發(fā),人才梯隊的培養(yǎng)。
臭氣成分 | 臭氣入口指標 | 臭氣排口指標 | 排氣筒高度 |
H2S | ≤100mg/m3 | ≤0.6kg/h | 15m |
NH3 | ≤40mg/m3 | ≤0.6kg/h | |
甲硫醚 | ≤50mg/m3 | ≤0.6kg/h | |
臭氣 | ≤3000 | ≤800 |